Horno industrial modelo Hwf6630-10, horno de deposición química en fase vapor tipo tanque

El horno de deposición de vapor del tanque HWF6630-10 está diseñado para el tratamiento térmico a temperatura media de productos electrónicos.y atmósferas de hidrógenoEste horno, equipado con un sistema de monitorización informática en tiempo real, es ideal para pruebas de procesos de materiales en entornos de investigación.

• Modelo:HWF6630-10: las condiciones de los productos
• Temperatura de funcionamiento:750 °C
• Temperatura máxima:1000 °C
• Tamaño efectivo de la cámara:Para los vehículos de las categorías M1, M2 y N3
• Elemento de calefacción:Calentamiento interno con tubos de calentamiento de acero inoxidable
• Atmosfera de procesamiento:Nitrogeno, hidrógeno, acetileno
• Método de calentamiento:Calentador de fibra cerámica FEC
• Puntos de control de la temperatura:2
• Estabilidad a temperatura:± 1°C, con función de autoajuste del parámetro PID
• Método de control:Pantalla táctil + control centralizado por PLC
• Protección de alarma:Alertas visuales y acústicas por sobrecalentamiento y rotura del termoparejo
• Tasa de calentamiento:Se aplican las siguientes medidas:
• Potencia de calefacción:16 kW
• Requisitos de energía:Las instalaciones de la categoría 9 incluidas en el presente anexo no podrán utilizarse para la fabricación de productos de la categoría 9

Sobre Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

Nos especializamos en la investigación, desarrollo y fabricación de hornos industriales y hornos de laboratorio de alta, media y baja temperatura.Nuestra gama de productos incluye varios tipos de hornos ampliamente utilizados en cerámica avanzada, los componentes electrónicos, la metalurgia de polvo, las nuevas energías y las industrias fotovoltaicas.