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Horno de deposición de vapor químico CVD 1000 Ordm C Horno de calentamiento por fusión

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Horno de deposición de vapor químico CVD 1000 Ordm C Horno de calentamiento por fusión

CVD Chemical Vapor Deposition Furnace 1000 Ordm C Melting Heating Furnace
CVD Chemical Vapor Deposition Furnace 1000 Ordm C Melting Heating Furnace
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Ampliación de imagen :  Horno de deposición de vapor químico CVD 1000 Ordm C Horno de calentamiento por fusión

Datos del producto:
Place of Origin: China
Nombre de la marca: Chitherm
Número de modelo: MBF100 a 10
Pago y Envío Términos:
Minimum Order Quantity: 1
Precio: negotiable
Packaging Details: Customized
Delivery Time: Customized
Payment Terms: Customized
Supply Ability: Customized

Horno de deposición de vapor químico CVD 1000 Ordm C Horno de calentamiento por fusión

descripción
Rango de aplicaciones: Industriales El tipo: Horno de retención eléctrico
Utilización: Sinterización de cerámica El combustible: Eléctrico
Atmósfera: El nitrógeno Dimensiones efectivas de la cámara: 640*640*250 mm ((W*H*D)
Paquete de transporte: Envases de madera Especificación: 1200*1200*1500m m
Marca registrada: Chitherm Origen: China.
Código del SH: 8514101000 Capacidad de la fuente: 50 juegos/año
Personalización: Disponible Certificación: ISO
Estilo de lugar: Válvulas de acoplamiento
Resaltar:

Horno de deposición de vapor químico de calefacción

,

Horno de deposición de vapor químico de 1000 Ordm

,

Horno de cvd de 1000 ordm

Mbf100-10 Tipo de deposición química de vapor Horno CVD 1000 ordm C Horno de fusión Horno de calefacción Fuel eléctrico certificado ISO
 
1.Nombre y modelo del equipo:Fuego de deposición de vapor químico de tipo MBF100-10.

El horno de deposición de vapor químico (CVD) de tipo MBF100-10 es adecuado para el tratamiento térmico a temperatura media de productos electrónicos.Se utiliza principalmente para procesos de reacción en fase gaseosa de materiales relacionados en atmósferas de nitrógenoTambién se puede utilizar para procesos de sinterización de materiales relacionados bajo atmósferas protectoras.

2.Especificaciones técnicas y configuración básica

  1. Temperatura nominal: 750 °C
  2. Temperatura máxima: 1000°C
  3. Dimensiones de la zona de calefacción: 770 × 770 × 300 mm (ancho × largo × largo × largo)
  4. Dimensiones eficaces: 640 × 640 × 250 mm (ancho × largo × largo × largo)
  5. Material de la cámara exterior: SUS310S
  6. Material del revestimiento interiorCuarzo fundido
  7. Tamaño del producto: Φ120
  8. Capacidad de los equipos: 16 sustratos por lote
  9. Potencia máxima de calefacción: 16 kW
  10. Método de calentamientoBajo + Cuatro lados.
  11. Puntos de control de la temperaturaBajo + lateral.
  12. Tipo de termopar: Tipo K
  13. Tasa de calentamiento: ≤ 8°C/min
  14. Elementos de calefacción: Calentadores de fibra cerámica FEC
  15. Método de apertura de la puerta del hornoDiseño de apertura superior
  16. Estabilidad del control de temperatura: ± 1°C
  17. Instrumento de control de la temperatura: Controlador PID importado con función de ajuste automático
  18. Etapas del programa: 20 pasos
  19. Alerta y protección: Alarmas por sobre-temperatura, rotura del termoparejo y otras alarmas audibles/visuales, con protección contra apagones por sobre-temperatura.
  20. Aumento de la temperatura de la superficie:< 35oC.
  21. Peso:alrededor de 500 kg.
  22. Las dimensiones del horno:aproximadamente 1200 × 1200 × 1500 mm (W × H × D).
Mbf100-10 Type Chemical Vapor Deposition (CVD) Furnace 1000º C Melting Furnace Heating Furnace
3Lista de envío
  Punto de trabajo Nota Cuota del año
Composiciones básicas El horno   1 unidad
Certificados de inspección Horno y componentes principales comprados 1 conjunto
Documentación técnica Especificaciones del horno, documentación técnica de los principales componentes adquiridos, etc. 1 conjunto
Las partes clave Controlador de flujo de masa (MFC) Yamatake o HORIBA 4 Conjunto
Pantalla táctil   1 pieza
Controlador de temperatura   1 conjunto
Calentador FEC   1 conjunto
Cuarzo de revestimiento   1 conjunto
Las piezas El SSR   1 pieza

4Requisitos de las instalaciones
4.1 Condiciones ambientales: Temperatura entre 0 y 40 °CoC, humedad ≤ 80% RH, no hay gases corrosivos, no hay gases fuertes
alteración del flujo de aire.
4.2Requisitos del suelo: nivel, no hay vibraciones evidentes, capacidad de carga > 500 kg/m2.
4.3Condiciones de potencia: capacidad superior a:22kVA, 3 fases 5 líneas, voltaje 220/380V, frecuencia
50 Hz ((de acuerdo con la situación local). alambre en vivo: amarillo, verde, rojo, alambre neutral: azul, alambre de tierra: amarillo-verde;
4.4 Lugar de instalación: 1500 mm × 1500 mm × 3000 mm (ancho × alto × largo), área de instalación superior a 2,5 m.2.

Mbf100-10 Type Chemical Vapor Deposition (CVD) Furnace 1000º C Melting Furnace Heating Furnace

Contacto
Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd

Persona de Contacto: zang

Teléfono: 18010872860

Fax: 86-0551-62576378

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